1-(4-丁氧基-1-萘基)四氫噻吩鎓全氟丁烷磺酸鹽 CAS#: 209482-18-8; ChemWhat 代號:1499796
識別
| 產品描述* | 1-(4-丁氧基-1-萘基)四氫噻吩鎓全氟丁烷磺酸鹽 |
| IUPAC名稱 | 1-(4-butoxynaphthalen-1-yl)thiolan-1-ium;1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate |
| 分子結構 | ![]() |
| CAS登記號碼 | 209482-18-8 |
| EINECS號碼 | 沒有可用數據 |
| MDL號碼 | 沒有可用數據 |
| Beilstein登記號碼 | 沒有可用數據 |
| 同義詞 | 1-(4-n-butoxynaphthalen-1-yl)tetrahydrothiophenium nonafluoro-n-butanesulfonate1-(4-butoxynaphthyl)thiolanium perfluorobutylsulfonate |
| 分子式 | C22H23F9O4S2 |
| 分子量 | 586.5 |
| INCHI | InChI=1S/C18H23OS.C4HF9O3S/c1-2-3-12-19-17-10-11-18(20-13-6-7-14-20)16-9-5-4-8-15(16)17;5-1(6,3(9,10)11)2(7,8)4(12,13)17(14,15)16/h4-5,8-11H,2-3,6-7,12-14H2,1H3;(H,14,15,16)/q+1;/p-1 |
| InChI鍵 | WNDABSCBNOUSTE-UHFFFAOYSA-M |
| 典範 SMILES | CCCCOC1=CC=C(C2=CC=CC=C21)[S+]3CCCC3.C(C(C(F)(F)S(=O)(=O)[O-])(F)F)(C(F)(F)F)(F)F |
| 專利信息 | ||
| 專利ID | 稱謂 | 發布日期 |
| TWI579263 | 一種對光化射線或輻射敏感的樹脂組合物及其圖案形成方法 | 2017 |
| US8889336 | 輻射敏感樹脂組合物和輻射敏感酸發生劑 | 2014 |
物理數據
| 外觀 | 白色至類白色粉末 |
| 可溶性 | 沒有可用數據 |
| 閃點 | 沒有可用數據 |
| 折射率 | 沒有可用數據 |
| 靈敏度 | 沒有可用數據 |
光譜
| 描述(核磁共振光譜學) | 核(核磁共振光譜學) | 溶劑(核磁共振波譜法) | 頻率(NMR光譜),MHz |
| 化學位移,譜 | 1H | 氯仿 - d1 | 400 |
| 化學位移,譜 | 19F | 氯仿 - d1 | 400 |
| 描述(UV / VIS光譜) | 溶劑(UV / VIS光譜) | 吸收最大值(UV / VIS),nm | Ext./Abs。 係數,l·mol-1cm-1 |
| 吸收最大值 | 乙腈 | 193 | 21.54 |
合成路線(ROS)
| 條件 | 產量 |
| 在二氯甲烷中,-5℃;反應6小時;溶劑; |
安全與危害
| GHS危害聲明 | 未分類 |
其他數據
| 交通運輸 | NONH適用於所有運輸方式 |
| 在室溫和遠離光線下 | |
| HS編碼 | 沒有可用數據 |
| 儲存 | 在室溫和遠離光線下 |
| 保質期 | 1年 |
| 市場價 | USD |
| 藥物相似性 | |
| Lipinski規則組件 | |
| 分子量 | 586.54 |
| 日誌 | 8.752 |
| HBA | 3 |
| HBD | 0 |
| 匹配Lipinski規則 | 2 |
| Veber規則組件 | |
| 極性表面積(PSA) | 74.81 |
| 可旋轉債券(RotB) | 9 |
| 匹配Veber規則 | 2 |
| 使用模式 |
| 這種材料主要用於微電子和半導體行業:光刻膠-在紫外線照射下會產生強酸,從而增強光阻配方中的化學放大作用;半導體製造-用於先進光刻工藝,將圖案轉移到矽片上;電子化學品-作為積體電路製造及相關微加工製程的特種電子材料與化學放大塗片上;化學放大外線攝影塗層的特種電子材料與化學製光刻膠系統開發。供應商通常將其推廣用於科研和工業電子材料應用,而非醫藥或消費品領域。 |
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