鍍，[4-[1-(二氟磺甲基)-2,2,2-三氟乙氧基]苯基]雙[4-(1,1-二甲基乙基)苯基]-，內鹽 CAS#: 1465790-38-8; ChemWhat 代號：1491743
識別
| 產品描述* | 三苯基鍺(3-羥基三環[3.3.1.13,7]癸烷-1-甲氧羰基)二氟甲烷磺酸鹽 |
| IUPAC名稱 | |
| 分子結構 | ![鍺[4-[1-(二氟磺甲基)-2,2,2-三氟乙氧基]苯基]雙[4-(1,1-二甲基乙基)苯基]-，內鹽 CAS 1465790-38-8 的結構](https://www.chemwhat.com/wp-content/uploads/2026/02/Structure-of-Sulfonium-4-1-difluorosulfomethyl-222-trifluoroethoxyphenylbis4-11-dimethylethylphenyl-inner-salt-CAS-1465790-38-8-1.png) |
| CAS登記號碼 | 912290-04-1 |
| EINECS號碼 | 沒有可用數據 |
| MDL號碼 | 沒有可用數據 |
| Beilstein登記號碼 | 沒有可用數據 |
| 同義詞 | bis(4-tert-butylphenyl)-{4-(1,1,3,3,3-pentafluoro-1-sulfonatopropan-2-yloxy)phenyl}-sulfonium |
| 分子式 | C29H31F5O4S2 |
| 分子量 | 602.68 |
| INCHI | |
| InChI鍵 | WNLKPXMQEKEKRJ-UHFFFAOYSA-N |
| 典範 SMILES |
| 專利信息 |
| 沒有可用數據 |
物理數據
| 外觀 | 白色至類白色粉末 |
| 可溶性 | 沒有可用數據 |
| 閃點 | 沒有可用數據 |
| 折射率 | 沒有可用數據 |
| 靈敏度 | 沒有可用數據 |
光譜
| 沒有可用數據 |
合成路線（ROS）
| 沒有可用數據 |
安全與危害
| GHS危害聲明 | 未分類 |
其他數據
| 交通運輸 | NONH適用於所有運輸方式 |
| 在室溫和遠離光線下 | |
| HS編碼 | 沒有可用數據 |
| 儲存 | 在室溫和遠離光線下 |
| 保質期 | 2年 |
| 市場價 | USD |
| 藥物相似性 | |
| Lipinski規則組件 | |
| 分子量 | 602.687 |
| 日誌 | 10.365 |
| HBA | 3 |
| HBD | 0 |
| 匹配Lipinski規則 | 2 |
| Veber規則組件 | |
| 極性表面積（PSA） | 34.14 |
| 可旋轉債券（RotB） | 10 |
| 匹配Veber規則 | 2 |
| 使用模式 |
| 核心功能：光酸發生器（PAG） |
| 它吸收光並發生光解作用 |
| 產生強酸（二氟甲磺酸） 生成的酸可以催化化學放大反應或引發後續的陽離子聚合反應。它是光阻和陽離子光聚合物固化系統中的關鍵功能添加劑。 二、主要應用領域 1.半導體光阻（化學放大光阻，CARs） 適用於： i線、KrF和ArF光刻系統 高分辨率化學放大光阻 主要功能： 暴露於酸中會產生酸 催化脫保護反應 增強曝光效果 → 提高解析度、靈敏度和關鍵尺寸/線邊緣粗糙度 (CD/LER) 控制 金剛烷基結構的優點： 提供高熱穩定性 減少酸擴散 → 提高解析度和線邊緣粗糙度 提高光阻的光學性能和配方穩定性 陽離子光固化系統 用於環氧樹脂和乙烯醚材料的紫外光誘導陽離子固化 紫外線照射→生成酸→引發陽離子開環聚合或交聯 應用範圍包括： 紫外線固化塗料和油墨 電子封裝材料 光刻圖案化絕緣層（例如，PSPI、PI） |
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