三苯基鍺(3-羥基三環[3.3.1.13,7]癸烷-1-甲氧羰基)二氟甲烷磺酸鹽 CAS#: 912290-04-1; ChemWhat 代號:1491734
識別
| 產品描述* | 三苯基鍺(3-羥基三環[3.3.1.13,7]癸烷-1-甲氧羰基)二氟甲烷磺酸鹽 |
| IUPAC名稱 | 1,1-difluoro-2-[(3-hydroxy-1-adamantyl)methoxy]-2-oxoethanesulfonate;triphenylsulfanium |
| 分子結構 | ![]() |
| CAS登記號碼 | 912290-04-1 |
| EINECS號碼 | 沒有可用數據 |
| MDL號碼 | 沒有可用數據 |
| Beilstein登記號碼 | 沒有可用數據 |
| 同義詞 | 三苯基鍺 1-((3-羥基-1-金剛烷基)甲氧羰基)二氟甲磺酸二氟-(3-羥基-金剛烷-1-基甲氧羰基)甲磺酸-三苯基鍺鹽三苯基鍺 1-((3-羥基基金剛烷基)甲氧羰基)二氟甲磺酸鹽羰基)二氟甲磺酸鹽羰基)二氟甲磺酸鹽羰基)二氟甲磺酸鹽羰基)二氟甲磺酸鹽羰基)二氟甲磺酸鹽羰基)二氟甲磺酸鹽羰基)二氟甲磺酸鹽羰基)二氟甲磺酸鹽羰基)二氟甲磺酸鹽羰基)二氟甲磺酸鹽羰基)二氟甲磺酸鹽羰基)二氟甲磺酸鹽羰基)二氟甲磺酸鹽羰基)二氟甲磺酸鹽羰基)二氟甲磺酸鹽 |
| 分子式 | C31H32F2O6S2 |
| 分子量 | 602.7 |
| INCHI | InChI=1S/C18H15S.C13H18F2O6S/c1-4-10-16(11-5-1)19(17-12-6-2-7-13-17)18-14-8-3-9-15-18;14-13(15,22(18,19)20)10(16)21-7-11-2-8-1-9(3-11)5-12(17,4-8)6-11/h1-15H;8-9,17H,1-7H2,(H,18,19,20)/q+1;/p-1 |
| InChI鍵 | MMTQYTFKDNOQOV-UHFFFAOYSA-M |
| 典範 SMILES | C1C2CC3(CC1CC(C2)(C3)O)COC(=O)C(F)(F)S(=O)(=O)[O-].C1=CC=C(C=C1)[S+](C2=CC=CC=C2)C3=CC=CC=C3 |
| 專利信息 | ||
| 專利ID | 稱謂 | 發布日期 |
| US2016 / 168115 | 鹽、酸發生劑、抗蝕劑組合物及抗蝕圖案的製備方法 | 2016 |
| JP2018 / 145179 | 鹽、酸發生劑、抗蝕劑組合物及抗蝕圖案的製備方法 | 2018 |
物理數據
| 外觀 | 白色至類白色粉末 |
| 可溶性 | 沒有可用數據 |
| 閃點 | 沒有可用數據 |
| 折射率 | 沒有可用數據 |
| 靈敏度 | 沒有可用數據 |
| 溫度(溶解度(MCS)),°C | 溶劑(溶解度(MCS)) | 註釋(溶解度(MCS)) |
| 不溶於1%丙二醇單甲醚乙酸酯;丙二醇單甲醚;2-庚酮;乙酸正丁酯 | ||
| 23 | 乙酸乙酯 | 溶解度:2重量百分比 |
光譜
| 描述(核磁共振光譜學) | 核(核磁共振光譜學) | 溶劑(核磁共振波譜法) | 頻率(NMR光譜),MHz | 原始文本(核磁共振光譜學) |
| 化學位移,譜 | 1H | 二甲基亞砜d6 | 400 | |
| 1H | 二甲基亞砜d6 | 1B2(二甲基亞砜-d)的 H-NMR 數據6(內標:四甲基矽烷):δ(ppm) 1.38-1.51(m, 12H); 2.07(s, 2H); 3.85(s, 2H); 4.41(s, 1H); 7.75-7.89(m, 15H) |
| 描述(質譜) | 評論(質譜) | 峰 |
| ESI(電噴霧電離),LCMS(液相色譜質譜) | 分子峰 | 263.07 m / z |
| ESI(電噴霧電離),LCMS(液相色譜質譜) | 分子峰 | 339.10 m / z |
| 描述(UV / VIS光譜) |
| 光譜 |
合成路線(ROS)
| 條件 | 產量 |
| 在20℃的氫氧化鋰一水合物中;反應2小時; | |
| 在氫氧化鋰一水合物中;乙腈,23℃;反應15小時; | |
| 在氯仿中;氫氧化鋰一水合物反應 15 小時; |
安全與危害
| 象形圖 | ![]() ![]() |
| Signal | 危險 |
| GHS危害聲明 | H301(100%):吞嚥會中毒[危險急性毒性,口服] H314(94.7%):造成嚴重的皮膚灼傷和眼睛損傷[危險皮膚腐蝕/刺激] H318(100%):造成嚴重眼損傷[危險嚴重眼損傷/眼刺激] 通知之間的信息可能會有所不同,具體取決於雜質,添加劑和其他因素。 |
| 防範說明代碼 | P260、P264、P264+P265、P270、P280、P301+P316、P301+P330+P331、P302+P361+P354、P304+P340、P305+P354+P338、P316、P317、P321、P330、P363、 405、和P501 (每個P代碼的對應語句可以在 GHS分類 頁。) |
其他數據
| 交通運輸 | NONH適用於所有運輸方式 |
| 在室溫和遠離光線下 | |
| HS編碼 | 沒有可用數據 |
| 儲存 | 在室溫和遠離光線下 |
| 保質期 | 2年 |
| 市場價 | USD |
| 藥物相似性 | |
| Lipinski規則組件 | |
| 分子量 | 602.72 |
| 日誌 | 6.588 |
| HBA | 6 |
| HBD | 1 |
| 匹配Lipinski規則 | 2 |
| Veber規則組件 | |
| 極性表面積(PSA) | 112.11 |
| 可旋轉債券(RotB) | 8 |
| 匹配Veber規則 | 2 |
| 使用模式 |
| 核心功能:光酸發生器(PAG) |
| 它吸收光並發生光解作用 |
| 產生強酸(二氟甲磺酸) 生成的酸可以催化化學放大反應或引發後續的陽離子聚合反應。它是光阻和陽離子光聚合物固化系統中的關鍵功能添加劑。 二、主要應用領域 1.半導體光阻(化學放大光阻,CARs) 適用於: i線、KrF和ArF光刻系統 高分辨率化學放大光阻 主要功能: 暴露於酸中會產生酸 催化脫保護反應 增強曝光效果 → 提高解析度、靈敏度和關鍵尺寸/線邊緣粗糙度 (CD/LER) 控制 金剛烷基結構的優點: 提供高熱穩定性 減少酸擴散 → 提高解析度和線邊緣粗糙度 提高光阻的光學性能和配方穩定性 陽離子光固化系統 用於環氧樹脂和乙烯醚材料的紫外光誘導陽離子固化 紫外線照射→生成酸→引發陽離子開環聚合或交聯 應用範圍包括: 紫外線固化塗料和油墨 電子封裝材料 光刻圖案化絕緣層(例如,PSPI、PI) |
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![三苯基鍺(3-羥基三環[3.3.1.13,7]癸烷-1-甲氧羰基)二氟甲烷磺酸鹽 CAS# 912290-04-1 的合成路線](https://www.chemwhat.com/wp-content/uploads/2026/02/Route-of-Synthesis-ROS-of-Triphenylsulfonium-3-hydroxytricyclo3.3.1.137decane-1-methoxycarbonyldifluoromethane-sulfonate-CAS-912290-04-1.png)

