1-(三環[3.3.1.13,7]癸-1-基甲基)2,2-二氟-2-磺基乙酸酯三苯基鍺鹽(1:1) CAS#: 1022939-88-3; ChemWhat 代號：1491748
三苯基鍺鹽與 1-(三環)
識別
| 產品描述* | 三苯基鍺鹽與 1-(三環[3.3.1.13,7]癸-1-基甲基) 2,2-二氟-2-磺基乙酸酯 (1:1) |
| IUPAC名稱 | 2-(1-金剛烷基甲氧基)-1,1-二氟-2-氧代乙磺酸鹽；三苯硫鎓 |
| 分子結構 | ![1-(三環[3.3.1.13,7]癸-1-基甲基)2,2-二氟-2-磺基乙酸酯三苯基鍺鹽的結構 (11) CAS 1022939-88-3](https://www.chemwhat.com/wp-content/uploads/2026/02/Structure-of-Triphenylsulfonium-salt-with-1-tricyclo3.3.1.137dec-1-ylmethyl-22-difluoro-2-sulfoacetate-11-CAS-1022939-88-3.png) |
| CAS登記號碼 | 1022939-88-3 |
| EINECS號碼 | 沒有可用數據 |
| MDL號碼 | 沒有可用數據 |
| Beilstein登記號碼 | 沒有可用數據 |
| 同義詞 | 三苯基鍺 1-金剛烷基甲氧羰基二氟甲磺酸三苯基鍺 1-金剛烷基甲氧羰基二氟甲磺酸三苯基鍺 (金剛烷-1-基甲基)氧羰基二氟甲磺酸三苯基鍺 (金剛烷-1-基甲基)氧羰基二氟磺酸 |
| 分子式 | C31H32F2O5S2 |
| 分子量 | 586.7 |
| INCHI | InChI=1S/C18H15S.C13H18F2O5S/c1-4-10-16(11-5-1)19(17-12-6-2-7-13-17)18-14-8-3-9-15-18;14-13(15,21(17,18)19)11(16)20-7-12-4-8-1-9(5-12)3-10(2-8)6-12/h1-15H;8-10H,1-7H2,(H,17,18,19)/q+1;/p-1 |
| InChI鍵 | OPUSNKQMMLRYMS-UHFFFAOYSA-M |
| 典範 SMILES | C1C2CC3CC1CC(C2)(C3)COC(=O)C(F)(F)S(=O)(=O)[O-].C1=CC=C(C=C1)[S+](C2=CC=CC=C2)C3=CC=CC=C3 |
| 專利信息 | ||
| 專利ID | 稱謂 | 發布日期 |
| US2016 / 168115 | 鹽、酸發生劑、抗蝕劑組合物及抗蝕圖案的製備方法 | 2016 |
| JP2018 / 145179 | 鹽、酸發生劑、抗蝕劑組合物及抗蝕圖案的製備方法 | 2018 |
物理數據
| 外觀 | 白色至類白色粉末 |
| 可溶性 | 沒有可用數據 |
| 閃點 | 沒有可用數據 |
| 折射率 | 沒有可用數據 |
| 靈敏度 | 沒有可用數據 |
光譜
| 核（核磁共振光譜學） | 溶劑（核磁共振波譜法） | 原始文本（核磁共振光譜學） |
| 1H | 氯仿 - d1 | 1<sup>1</sup>H NMR（測量溶劑：氘代氯仿，參考物質：四甲基矽烷）；δ=7.72 (m, 15H; TPS), 3.85 (s, 2H; CH<sub>3</sub>)2), 1.92 (m, 3H; 1-Ad), 1.62 (m, 12H; 1-Ad)。 |
| 1H | 氯仿 - d1 | 19<sup>19</sup>F NMR（測量溶劑：氘代氯仿，參考物質：三氯氟甲烷）；δ=-110.0 (s, 2F; CF<sub>3</sub>)2). |
| 描述（質譜） | 評論（質譜） | 峰 |
| ESI（電噴霧電離），LCMS（液相色譜質譜） | 分子峰 | |
| ESI（電噴霧電離） | 分子峰 | 263.2 m / z |
| LCMS（液相色譜質譜），ESI（電噴霧電離） | ||
| LCMS（液相色譜質譜），ESI（電噴霧電離） |
| 描述（UV / VIS光譜） |
| 光譜 |
合成路線（ROS）
![1-(三環[3.3.1.13,7]癸-1-基甲基)2,2-二氟-2-磺基乙酸酯(11) CAS# 1022939-88-3 的三苯基鍺鹽的合成路線](https://www.chemwhat.com/wp-content/uploads/2026/02/Route-of-Synthesis-ROS-of-Triphenylsulfonium-salt-with-1-tricyclo3.3.1.137dec-1-ylmethyl-22-difluoro-2-sulfoacetate-11-CAS-1022939-88-3.png)
| 條件 | 產量 |
| 在80℃的水中； | |
| 在甲醇中；在水中浸泡 15 小時； |
安全與危害
| GHS危害聲明 | 未分類 |
其他數據
| 交通運輸 | NONH適用於所有運輸方式 |
| 在室溫和遠離光線下 | |
| HS編碼 | 沒有可用數據 |
| 儲存 | 在室溫和遠離光線下 |
| 保質期 | 2年 |
| 市場價 | USD |
| 藥物相似性 | |
| Lipinski規則組件 | |
| 分子量 | 586.721 |
| 日誌 | 8.553 |
| HBA | 5 |
| HBD | 0 |
| 匹配Lipinski規則 | 2 |
| Veber規則組件 | |
| 極性表面積（PSA） | 91.88 |
| 可旋轉債券（RotB） | 8 |
| 匹配Veber規則 | 2 |
| 使用模式 |
| 核心功能：光酸發生器（PAG） |
| 它吸收光並發生光解作用 |
| 產生強酸（二氟甲磺酸） 生成的酸可以催化化學放大反應或引發後續的陽離子聚合反應。它是光阻和陽離子光聚合物固化系統中的關鍵功能添加劑。 二、主要應用領域 1.半導體光阻（化學放大光阻，CARs） 適用於： i線、KrF和ArF光刻系統 高分辨率化學放大光阻 主要功能： 暴露於酸中會產生酸 催化脫保護反應 增強曝光效果 → 提高解析度、靈敏度和關鍵尺寸/線邊緣粗糙度 (CD/LER) 控制 金剛烷基結構的優點： 提供高熱穩定性 減少酸擴散 → 提高解析度和線邊緣粗糙度 提高光阻的光學性能和配方穩定性 陽離子光固化系統 用於環氧樹脂和乙烯醚材料的紫外光誘導陽離子固化 紫外線照射→生成酸→引發陽離子開環聚合或交聯 應用範圍包括： 紫外線固化塗料和油墨 電子封裝材料 光刻圖案化絕緣層（例如，PSPI、PI） |
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